高温全息光栅的制作工艺研究

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高温全息光栅的制作工艺研究

更新时间：2025-09-01

- 高温全息光栅的制作工艺研究
- Production of holographic gratings for high temperature
- 光学技术 1993年第3期
- 作者机构：
  
  1. 1:清华大学工程力学系
  2. 2:清华大学工程力学系
  3. 3:清华大学工程力学系,100084
  4. 4,100084
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1993
- 稿件说明：
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谢惠民, 袁杰, 戴福隆. 高温全息光栅的制作工艺研究[J]. 光学技术, 1993,(3).

Production of holographic gratings for high temperature[J]. 1993, (3).
谢惠民, 袁杰, 戴福隆. 高温全息光栅的制作工艺研究[J]. 光学技术, 1993,(3). DOI：

Production of holographic gratings for high temperature[J]. 1993, (3). DOI：

本文提出了应用双镀层光刻法制作高温全息光栅的新工艺。此工艺范围广

制栅对象可选择陶瓷、石英等耐高温的非金属材料

也可选择耐高温合金等金属材料。高温实验结果表明.双镀层高温全息光栅具有较好的抗氧化能力

可作为高温变形测量的基本元件使用。

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