反应离子镀制备ITO膜

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反应离子镀制备ITO膜

更新时间：2025-09-01

- 反应离子镀制备ITO膜
- Reactive ion plating of indium tin oxide films (ITO)
- 光学技术 1993年第5期
- 作者机构：
  
  1. 1:河南师范大学物理系
  2. 2:清华大学现代应用物理系,新乡,453002
  3. 3,北京,100084
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1993
- 稿件说明：
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王建成, 韩丽瑛. 反应离子镀制备ITO膜[J]. 光学技术, 1993,(5).

Reactive ion plating of indium tin oxide films (ITO)[J]. 1993, (5).
王建成, 韩丽瑛. 反应离子镀制备ITO膜[J]. 光学技术, 1993,(5). DOI：

Reactive ion plating of indium tin oxide films (ITO)[J]. 1993, (5). DOI：

采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜

所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内

典型的峰值透过率为89%

面电阻为34Ω/□。

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