等离子体辅助沉积HfO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>减反、高反光学薄膜

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等离子体辅助沉积HfO₂/SiO₂减反、高反光学薄膜

更新时间：2025-09-01

- 等离子体辅助沉积HfO₂/SiO₂减反、高反光学薄膜
- Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD
- 光学技术 1998年第3期
- 作者机构：
  
  1:成都精密光学工程研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1998
- 稿件说明：
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付雄鹰, 孔明东, 马平, 等. 等离子体辅助沉积HfO₂/SiO₂减反、高反光学薄膜[J]. 光学技术, 1998,(3).

Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD[J]. 1998, (3).
付雄鹰, 孔明东, 马平, 等. 等离子体辅助沉积HfO₂/SiO₂减反、高反光学薄膜[J]. 光学技术, 1998,(3). DOI：

Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD[J]. 1998, (3). DOI：

本文报导了用等离子体辅助（Ｐｌａｓｍａ－ＩＡＤ）沉积技术沉积ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反及高反光学薄膜。在波长１０６４ｎｍ处，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反膜透过率大于９９．５％，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反膜反射率大于９９．５％。

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