显微摄影装置的优化设计

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显微摄影装置的优化设计

更新时间：2025-09-01

- 显微摄影装置的优化设计
- Optimal design of the photomicrography device
- 光学技术 1998年第6期
- 作者机构：
  
  1:清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1998
- 稿件说明：
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萧泽新. 显微摄影装置的优化设计[J]. 光学技术, 1998,(6).

Optimal design of the photomicrography device[J]. 1998, (6).
萧泽新. 显微摄影装置的优化设计[J]. 光学技术, 1998,(6). DOI：

Optimal design of the photomicrography device[J]. 1998, (6). DOI：

本文是作者根据图片资料对国外先进的显微摄影装置进行“反求”价值分析后，自主地设计出达到或优于国外同类产品的小结，其中包括了无限远像距光学系统的创新应用。可见在工程光学设计中运用价值工程这一先进的管理技术与思想方法也是大有可为的。

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