PEG200改性SiO<sub>2</sub>溶胶制备光学增透膜的研究

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PEG200改性SiO₂溶胶制备光学增透膜的研究

更新时间：2025-09-01

- PEG200改性SiO₂溶胶制备光学增透膜的研究
- Preparation of antireflective coating by PEG200 modified SiO 2 sol
- 光学技术 1999年第5期页码：16-18
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室,太原,030001
  2. 2:中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室,太原,030001
  3. 3:中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室,太原,030001
  4. 4:中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室,太原,030001
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家“863”资助项目
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1999
- 稿件说明：
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孙继红, 范文浩, 章斌, 等. PEG200改性SiO₂溶胶制备光学增透膜的研究[J]. 光学技术, 1999,(5):16-18.

Preparation of antireflective coating by PEG200 modified SiO 2 sol[J]. 1999, (5): 16-18.
孙继红, 范文浩, 章斌, 等. PEG200改性SiO₂溶胶制备光学增透膜的研究[J]. 光学技术, 1999,(5):16-18. DOI：

Preparation of antireflective coating by PEG200 modified SiO 2 sol[J]. 1999, (5): 16-18. DOI：

采用ＴＥＭ、ＳＤＰ等分析手段对ＰＥＧ２００改性的ＳｉＯ２溶胶制备参数与光学增透膜的性质进行了研究。结果表明：ＰＥＧ２００改性后的ＳｉＯ２溶胶簇团粒度分布与交联状况发生显著变化，形成不同的网络结构特征，由此影响膜层的光学增透性能。

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