玻璃基片上SiO<sub>2</sub>膜层厚度的测量方法

汤安东; 王秋花; 郑月景; 刘瑞川

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玻璃基片上SiO₂膜层厚度的测量方法

更新时间：2025-09-01

- 玻璃基片上SiO₂膜层厚度的测量方法
- Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate
- 光学技术 1999年第6期页码：37-39
- 作者机构：
  
  1. 1:深圳莱宝真空技术有限公司,广东,深圳,518034
  2. 2:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
  3. 3:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
  4. 4:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
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  中图分类号：
- 纸质出版：1999
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汤安东, 王秋花, 郑月景, 等. 玻璃基片上SiO₂膜层厚度的测量方法[J]. 光学技术, 1999,(6):37-39.

Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate[J]. 1999, (6): 37-39.
汤安东, 王秋花, 郑月景, 等. 玻璃基片上SiO₂膜层厚度的测量方法[J]. 光学技术, 1999,(6):37-39. DOI：

Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate[J]. 1999, (6): 37-39. DOI：

摘要

钠钙玻璃基片在液晶显示器件（ＬＣＤ）等制造业中得到了广泛的应用。为防止基片中的碱金属离子扩散到器件的工作介质中，进而影响其化学稳定性和使用寿命，一般要在基片表面镀上一定厚度的ＳｉＯ２膜层，以便起到阻挡层的作用。基于Ｐ蚀刻剂对ＳｉＯ２膜层和基片有显著不同的蚀刻速度，提出了一种测量玻璃基片上的ＳｉＯ２膜层厚度的方法，即：利用表面轮廓仪，在测量三个不同的蚀刻数据后，计算出ＳｉＯ２膜层的厚度。以用射频溅射法制备的ＳｉＯ２膜层为样品进行了测量，具体的实验数据证实了该方法的可靠性和有效性

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