离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性

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更新时间：2025-09-01

- 离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性
- Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition
- 光学技术 2001年第5期页码：410-412
- 作者机构：
  
  1. 1:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027
  2. 2:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027
  3. 3:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027
  4. 4:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027
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  中图分类号：
- 纸质出版：2001
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顾培夫, 李海峰, 章岳光, 等. 离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性[J]. 光学技术, 2001,(5):410-412.

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition[J]. 2001, (5): 410-412.
顾培夫, 李海峰, 章岳光, 等. 离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性[J]. 光学技术, 2001,(5):410-412. DOI：

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition[J]. 2001, (5): 410-412. DOI：

用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性。采用实验修正膜层厚度修正板的办法获得了较好的均匀性分布

给出了实验配置、实验方法和实验结果

并对实验结果作了分析讨论

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