减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制

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减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制

更新时间：2025-09-01

- 减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制
- Design for the anti reflection coatings with electro static potential and electro magnetic shielding
- 光学技术 2001年第5期页码：406-407
- 作者机构：
  
  1. 1:北京理工大学光电工程系,北京,100081
  2. 2:北京理工大学光电工程系,北京,100081
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2001
- 稿件说明：
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李芳, 林永昌. 减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制[J]. 光学技术, 2001,(5):406-407.

Design for the anti reflection coatings with electro static potential and electro magnetic shielding[J]. 2001, (5): 406-407.
李芳, 林永昌. 减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制[J]. 光学技术, 2001,(5):406-407. DOI：

Design for the anti reflection coatings with electro static potential and electro magnetic shielding[J]. 2001, (5): 406-407. DOI：

金属膜具有复折射率N =n -ik

同时又具有金属的导电特性。采用含有一层金属Cu的膜系代替原有的ITO透明导电膜来制作应用于CMT的减反、防静电、抗电磁辐射膜。经过理论分析

计算机辅助设计

最后进行实验验证

提出了一种全新的制作减反、防静电、抗电磁辐射膜的方法。测量结果验证了方法的可行性

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