光栅制备工艺的新进展

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光栅制备工艺的新进展

更新时间：2025-09-01

- 光栅制备工艺的新进展
- The new progress of grating fabrication method
- 光学技术 2001年第5期页码：427-429
- 作者机构：
  
  1. 1:清华大学工程物理系,北京,100084
  2. 2:清华大学工程物理系,北京,100084
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2001
- 稿件说明：
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赵鹭明, 王立军. 光栅制备工艺的新进展[J]. 光学技术, 2001,(5):427-429.

The new progress of grating fabrication method[J]. 2001, (5): 427-429.
赵鹭明, 王立军. 光栅制备工艺的新进展[J]. 光学技术, 2001,(5):427-429. DOI：

The new progress of grating fabrication method[J]. 2001, (5): 427-429. DOI：

从全息光栅法出发

详细阐述了应用偶氮苯聚合物光致表面调制效应制备光栅的新工艺

说明使用偶氮苯聚合物薄膜制备光栅方法的特点

介绍了采用新工艺制备的光栅的独特性质———光栅可热擦除或光学擦除

同时提出应用新材料光栅制造方法所面临的问题。采用新工艺实验制备了薄膜光栅

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