可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展

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更新时间：2025-09-01

- 可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展
- Research and development of oxides and sub-oxides thin films using as optical recording media
- 光学技术 2002年第1期页码：11-15
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院上海光学精密机械研究所
  2. 2:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
  3. 3,上海,201800
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2002
- 稿件说明：
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李青会, 干福熹. 可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展[J]. 光学技术, 2002,(1):11-15.

Research and development of oxides and sub-oxides thin films using as optical recording media[J]. 2002, (1): 11-15.
李青会, 干福熹. 可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展[J]. 光学技术, 2002,(1):11-15. DOI：

Research and development of oxides and sub-oxides thin films using as optical recording media[J]. 2002, (1): 11-15. DOI：

介绍了可用于可录、可擦除、全息光存储及超分辨掩膜层的氧化物、次氧化物薄膜材料的种类、制备方法、光存储特性和存储机制。这类薄膜材料由于具有种类多、应用范围广、制备方法多样、写入灵敏度高和记录稳定性好等优点

正受到各国研究者越来越多的关注。分析总结了这类材料的研究现状、存在的主要问题和未来发展方向

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