HfO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>高反膜、增透膜及偏振膜的1064nm激光损伤特性

胡建平; 邱服民; 马平

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HfO₂/SiO₂高反膜、增透膜及偏振膜的1064nm激光损伤特性

更新时间：2025-09-01

- HfO₂/SiO₂高反膜、增透膜及偏振膜的1064nm激光损伤特性
- 1064nm pulse laser damage of hafnia-silica multilayer coatings
- 光学技术 2001年第6期页码：507-508
- 作者机构：
  
  1. 1:成都精密光学工程研究中心
  2. 2:成都精密光学工程研究中心
  3. 3:成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041
  4. 4,四川,成都,610041
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- 纸质出版：2001
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胡建平, 邱服民, 马平. HfO₂/SiO₂高反膜、增透膜及偏振膜的1064nm激光损伤特性[J]. 光学技术, 2001,(6):507-508.

1064nm pulse laser damage of hafnia-silica multilayer coatings[J]. 2001, (6): 507-508.
胡建平, 邱服民, 马平. HfO₂/SiO₂高反膜、增透膜及偏振膜的1064nm激光损伤特性[J]. 光学技术, 2001,(6):507-508. DOI：

1064nm pulse laser damage of hafnia-silica multilayer coatings[J]. 2001, (6): 507-508. DOI：

摘要

高反膜、增透膜和偏振膜是Nd∶YAG激光器中的关键薄膜元件

其抗激光损伤能力直接影响到激光器的输出能量和功率。由于优异的物理化学性能

高功率Nd∶YAG激光器的光学薄膜一般采用HfO2 /SiO2 膜料组合镀制

因而用此膜料镀制的光学薄膜的激光损伤特性是薄膜工作者重点关注的问题。对光学中心APS15 0 4镀膜机镀制的HfO2 /SiO2 高反膜、增透膜和偏振膜等开展了 10 64nm的激光损伤实验研究

用 2 0 0倍的Normaski显微镜详细分析了高反

增透和偏振膜的激光损伤图貌

发现对于脉宽为 10ns波长的 10 64nm的激光而言

高反膜基本表现为孔洞和等离子体烧蚀疤痕

孔洞是由薄膜中的节瘤 (nodular)缺陷的激光损伤引起的

损伤的能流密度较低

为薄膜的零损伤阈值密度。疤痕为薄膜的激光等离子体烧伤引起的

尺寸大小与激光能量密度成近似正比。增透膜一般为双面镀

分前后膜堆两种情况

前膜堆表现为孔洞和疤痕

与高反膜相似 ;后膜堆为孔洞型的小圆麻点聚积

麻点处的薄膜完全剥落

没有疤痕等烧伤痕迹

是激光在基片之间形成的驻波电场损毁

损伤阈值比前膜堆低 1 5倍

决定着增透膜的损伤阈值。偏振膜的低能量密度损伤与增透膜后膜堆相似

表现为孔洞型小麻点聚积

损伤处未见疤痕等烧蚀痕迹。对薄膜小尺度损?

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