用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术

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更新时间：2025-09-01

- 用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术
- Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head
- 光学技术 2002年第4期页码：291-292
- 作者机构：
  
  1. 1:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室
  2. 2:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室
  3. 3:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074
  4. 4,湖北,武汉,430074
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  20 0 0年中国博士后科学基金资助项目;2 0 0 0年湖北省自然科学基金重点资助项目;国家重点基础研究 973资助项目 (G19990 330 )
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2002
- 稿件说明：
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张新宇, 裴先登, 谢长生. 用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术[J]. 光学技术, 2002,(4):291-292.

Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head[J]. 2002, (4): 291-292.
张新宇, 裴先登, 谢长生. 用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术[J]. 光学技术, 2002,(4):291-292. DOI：

Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head[J]. 2002, (4): 291-292. DOI：

讨论了制作适用于近场集成光学头中的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜的灰度掩模技术。定性地给出了与几种典型的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜对应的灰度掩模版的设计实例

以及将它应用于光刻操作的情况

为采用灰度掩模技术制作适用于近场集成光学头中的微透镜器件奠定了基础。灰度掩模技术在微透镜器件的制作方面具有重要的应用前景

有助于简化制备工艺

降低制作成本

优化微透镜阵列的结构参数。

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