一种亚纳米级变栅距衍射光栅制作方法的研究

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更新时间：2025-09-01

- 一种亚纳米级变栅距衍射光栅制作方法的研究
- Study on the fabrication of sub-nanometer varied-line space gratings
- 光学技术 2003年第3期页码：320-322
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130022
  2. 2:长春工业大学
  3. 3,长春,130012
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2003
- 稿件说明：
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时轮. 一种亚纳米级变栅距衍射光栅制作方法的研究[J]. 光学技术, 2003,(3):320-322.

Study on the fabrication of sub-nanometer varied-line space gratings[J]. 2003, (3): 320-322.
时轮. 一种亚纳米级变栅距衍射光栅制作方法的研究[J]. 光学技术, 2003,(3):320-322. DOI：

Study on the fabrication of sub-nanometer varied-line space gratings[J]. 2003, (3): 320-322. DOI：

变栅距(VLS)衍射光栅具有自聚焦、像差校正等独特优点。VLS光栅要求的最小栅距变化量为亚纳米数量级

仅靠提高光栅刻划机的分度精度已很难实现

针对这一问题

提出了一种相位扫描方法用于光栅刻划机的变栅距分度控制

即通过对刻划机分度系统的干涉条纹进行微位移扫描来进行相位控制。实验结果表明

相位扫描方法达到了变栅距光栅所要求的亚纳米级的栅距变化精度。

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