反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工

范镝; 张学军; 张忠玉; 牛海燕; 丰玉琴

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反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工

更新时间：2025-09-01

- 反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工
- Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror
- 光学技术 2003年第6期页码：667-668
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  2. 2:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  3. 3:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  4. 4:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家杰出青年基金资助项目(69925512)
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2003
- 稿件说明：
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范镝, 张学军, 张忠玉, 等. 反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工[J]. 光学技术, 2003,(6):667-668.

Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror[J]. 2003, (6): 667-668.
范镝, 张学军, 张忠玉, 等. 反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工[J]. 光学技术, 2003,(6):667-668. DOI：

Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror[J]. 2003, (6): 667-668. DOI：

摘要

介绍了100mm口径反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工工艺流程。按照流程依次介绍了在粗磨成形、细磨抛光和精磨抛光过程中使用的机床、磨具和磨料以及采用的工艺参数和检测方法。介绍了在光学加工各个步骤中应注意的问题。展示了加工后反应烧结碳化硅平面反射镜的实物照片。给出了面形精度和表面粗糙度的检测结果:面形精度(95%孔径)均方根值(RMS)为0.030λ(λ=632.8nm)

表面粗糙度RMS值达到了1.14nm(测量区域大小为603 6μmⅹ448 4μm)。

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Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror

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