极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计

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极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计

更新时间：2025-09-01

- 极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计
- Study on extreme value method of monitoring thin film error and the improvement of the system
- 光学技术 2003年第6期页码：696-698
- 作者机构：
  
  1. 1:曲阜师范大学激光研究所
  2. 2:曲阜师范大学激光研究所
  3. 3:曲阜师范大学激光研究所
  4. 4:曲阜师范大学激光研究所山东曲阜,273165
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2003
- 稿件说明：
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孔伟金, 吴福全, 郝殿中, 等. 极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计[J]. 光学技术, 2003,(6):696-698.

Study on extreme value method of monitoring thin film error and the improvement of the system[J]. 2003, (6): 696-698.
孔伟金, 吴福全, 郝殿中, 等. 极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计[J]. 光学技术, 2003,(6):696-698. DOI：

Study on extreme value method of monitoring thin film error and the improvement of the system[J]. 2003, (6): 696-698. DOI：

分析了光学薄膜厚度的极值控制法

并利用矩阵的方法给出了极值法膜厚控制误差。基于极值法膜厚控制的原理

利用由IC/5薄膜沉积控制器和晶震探头组成的反馈系统

控制蒸发速率的大小

光控的信号由可编程的计算机探测接收。分别对ZrO2/SiO2

膜料进行了两组交替镀制实验测试。结果表明

整个系统稳定性好

自动化程度高

膜厚控制精度在1 02%左右。

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