可写光盘光密度曲线模型的研究及应用

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可写光盘光密度曲线模型的研究及应用

更新时间：2025-09-01

- 可写光盘光密度曲线模型的研究及应用
- Study and application of optical density curve model for recordabl e disc
- 光学技术 2003年第5期页码：549-551
- 作者机构：
  
  1. 1:清华大学精密仪器与机械学系光信息存储国家工程研究中心
  2. 2:清华大学精密仪器与机械学系光信息存储国家工程研究中心,北京,100084
  3. 3,北京,100084
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家"九七三"重点基础研究项目(G19990330)
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2003
- 稿件说明：
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岳宏达, 潘龙法. 可写光盘光密度曲线模型的研究及应用[J]. 光学技术, 2003,(5):549-551.

Study and application of optical density curve model for recordabl e disc[J]. 2003, (5): 549-551.
岳宏达, 潘龙法. 可写光盘光密度曲线模型的研究及应用[J]. 光学技术, 2003,(5):549-551. DOI：

Study and application of optical density curve model for recordabl e disc[J]. 2003, (5): 549-551. DOI：

利用光密度曲线模型优化可写光盘的染料旋涂工艺。模型具有4个特征点和3个特征线段。特征点的位置反映了平移效应和填充效应的综合效果。特征线段的斜率反映了薄膜表面的平面度。借助模型分析旋涂工艺中的许多重要参数

从而控制盘片质量

并最终实现闭环生产控制。

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