MPCVD方法制备军用光学元件纳米金刚石膜

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更新时间：2025-09-01

- MPCVD方法制备军用光学元件纳米金刚石膜
- Preparation of optical level nano-crystalline diamond films on glass substrate by MPCVD method
- 光学技术 2004年第2期页码：184-186
- 作者机构：
  
  1. 1:武汉军械士官学校光电技术研究所
  2. 2:武汉军械士官学校光电技术研究所
  3. 3:武汉军械士官学校光电技术研究所
  4. 4:武汉军械士官学校光电技术研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国防科学基金资助项目
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2004
- 稿件说明：
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王小兵, 吝君瑜, 王古常, 等. MPCVD方法制备军用光学元件纳米金刚石膜[J]. 光学技术, 2004,(2):184-186.

Preparation of optical level nano-crystalline diamond films on glass substrate by MPCVD method[J]. 2004, (2): 184-186.
王小兵, 吝君瑜, 王古常, 等. MPCVD方法制备军用光学元件纳米金刚石膜[J]. 光学技术, 2004,(2):184-186. DOI：

Preparation of optical level nano-crystalline diamond films on glass substrate by MPCVD method[J]. 2004, (2): 184-186. DOI：

介绍了用MPCVD方法制备纳米金刚石膜的工艺。用MPCVD方法实验研究了在光学玻璃上镀纳米金刚石膜:膜层厚度为0 4551μm

粒度小于200nm

表面粗糙度小于29 5nm

最大透过率为80%;平均显微硬度为34 9GPa

平均体弹性模量为238 9GPa

均接近天然金刚石的力学性能。与衬底材料表面应力-2 78GPa相比

具有较好的抗压和耐磨效果。

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