制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究

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更新时间：2025-09-01

- 制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究
- Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating
- 光学技术 2004年第3期页码：340-342
- 作者机构：
  
  1. 1:上海交通大学制造技术与自动化装备研究开发中心
  2. 2:上海交通大学制造技术与自动化装备研究开发中心
  3. 3:上海交通大学制造技术与自动化装备研究开发中心
  4. 4:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,上海,200030
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2004
- 稿件说明：
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时轮, 马春翔, 胡德金, 等. 制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究[J]. 光学技术, 2004,(3):340-342.

Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating[J]. 2004, (3): 340-342.
时轮, 马春翔, 胡德金, 等. 制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究[J]. 光学技术, 2004,(3):340-342. DOI：

Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating[J]. 2004, (3): 340-342. DOI：

高精度的光电式刻划控制系统是制作高密度母光栅的关键技术

以光栅干涉仪为控制核心

设计了光电式的光栅刻划控制系统

并对可能产生的加工误差进行了初步的分析;采用该控制系统的光栅刻划实践表明

所设计的光电式刻划控制系统已完全达到了高密度衍射光栅的亚微米栅距分度要求。

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