氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响

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氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响

更新时间：2025-09-01

- 氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响
- Effect of the treatment by oxygen plasma on properties of ZrO₂ thin film
- 光学技术 2005年第2期页码：224-226
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心
  2. 2:中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心
  3. 3:中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心
  4. 4:中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心
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- 纸质出版：2005
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张东平, 张大伟, 范树海, 等. 氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响[J]. 光学技术, 2005,(2):224-226.

Effect of the treatment by oxygen plasma on properties of ZrO₂ thin film[J]. 2005, (2): 224-226.
张东平, 张大伟, 范树海, 等. 氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响[J]. 光学技术, 2005,(2):224-226. DOI：

Effect of the treatment by oxygen plasma on properties of ZrO₂ thin film[J]. 2005, (2): 224-226. DOI：

用低能氧等离子体对电子束热蒸发后的沉积氧化锆薄膜进行了后处理。通过对其光学性质、缺陷密度、弱吸收及抗激光辐照等性质的研究后发现

经氧等离子体处理后的氧化锆薄膜的折射率、消光系数、缺陷密度及吸收率等均有所降低

薄膜的激光损伤阈值较未处理的样品有了较大的提高。分析探讨了氧等离子体处理技术对薄膜性质的影响。

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