灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究

更新时间：2025-09-01

- 灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究
- Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning
- 光学技术 2005年第2期页码：190-192
- 作者机构：
  
  1. 1:苏州大学信息光学工程研究所
  2. 2:苏州大学信息光学工程研究所
  3. 3:苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006
  4. 4,江苏,苏州,215006
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2005
- 稿件说明：
移动端阅览
魏国军, 徐兵, 陈林森. 灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究[J]. 光学技术, 2005,(2):190-192.

Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning[J]. 2005, (2): 190-192.
魏国军, 徐兵, 陈林森. 灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究[J]. 光学技术, 2005,(2):190-192. DOI：

Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning[J]. 2005, (2): 190-192. DOI：

采用灰度狭缝进行矢量化的直写

使平台沿着垂直狭缝的方向运动

获得了具有台阶结构的光栅槽型

编写了与DXF文件一致的接口直写控制程序。该方法对成像视场要求低

可以制作大面积光栅。以色分离光栅(CSG)为例

用标量衍射理论分析了CSG的衍射效率

讨论了工艺制作误差对衍射效率的影响

并给出了初步的实验结果。

浏览量

108

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

用于彩色液晶显示器的色分离光栅的优化设计

极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件掩模的能量表征方法研究

光盘信息符特征宽度的确定