衍射现象对高精度偏转器设计的影响

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衍射现象对高精度偏转器设计的影响

更新时间：2025-09-01

- 衍射现象对高精度偏转器设计的影响
- Influence of the diffraction on design of high-precision deflectors
- 光学技术 2005年第6期
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院电工研究所
  2. 2:中国科学院电工研究所,北京,100080
  3. 3,北京,100080
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  中科院知识创新工程资助项目(KGCX1_Y_8)
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2005
- 稿件说明：
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刘珠明, 顾文琪. 衍射现象对高精度偏转器设计的影响[J]. 光学技术, 2005,(6).

Influence of the diffraction on design of high-precision deflectors[J]. 2005, (6).
刘珠明, 顾文琪. 衍射现象对高精度偏转器设计的影响[J]. 光学技术, 2005,(6). DOI：

Influence of the diffraction on design of high-precision deflectors[J]. 2005, (6). DOI：

基于波动光学理论

计算了由衍射、球差和色差三者共同作用的电子束斑电流分布

得到了电子束斑的精确信息和电子束曝光机的轴上分辨率。针对某一个具体系统的不同电子束孔径角

以偏转器的位置和相互转角为变量进行了偏转系统的优化设计;综合考虑了电子光学系统的衍射、轴上像差和偏转像差三者与光阑孔径角的不同关系。得到了光柱体的最佳总体性能

保证了电子束曝光机的高分辨率和均匀性。

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