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1. 1:浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室
2. 2:浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室
3. 3:浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室
4. 4:浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027
纸质出版:2005
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刘涌, 宋晨路, 汪建勋, 等. 一种获得半导体薄膜光学参数的方法[J]. 光学技术, 2005,(6).
The research of a method to obtain the optical parameters of semiconductor films[J]. 2005, (6).
刘涌, 宋晨路, 汪建勋, 等. 一种获得半导体薄膜光学参数的方法[J]. 光学技术, 2005,(6). DOI:
The research of a method to obtain the optical parameters of semiconductor films[J]. 2005, (6). DOI:
实现薄膜光学参数的简便测量对于薄膜的制备和应用具有重要意义。引入适用于半导体材料的Forouhi_Bloomer模型
用其表征薄膜折射率与色散的关系。考虑到粗糙度的影响
假设薄膜厚度服从正态分布
给出了模拟退火法与迭代法相结合、由可见光光谱测定薄膜光学参数的方法。作为尝试
以硅系薄膜为例进行了计算。结果表明
获得的厚度与用椭偏仪测量的结果较为吻合。该方法适用于研究和测量半导体薄膜的光学性能和膜厚
具有很高的实用价值。
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