AFM制作纳米光栅技术研究

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AFM制作纳米光栅技术研究

更新时间：2025-09-01

- AFM制作纳米光栅技术研究
- Technique of nano-grating fabricated by AFM
- 光学技术 2006年第3期页码：330-332
- 作者机构：
  
  1. 1:清华大学工程力学系
  2. 2:清华大学工程力学系
  3. 3:清华大学工程力学系
  4. 4:清华大学工程力学系
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  高等学校博士学科点专项科研基金(项目20020003025);教育部优秀青年教师资助计划;国家重点基础研究发展计划(项目2004CB619304);国家自然科学基金(项目10232030,10121202,10472050)
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2006
- 稿件说明：
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张鸣, 张伟, 华心, 等. AFM制作纳米光栅技术研究[J]. 光学技术, 2006,(3):330-332.

Technique of nano-grating fabricated by AFM[J]. 2006, (3): 330-332.
张鸣, 张伟, 华心, 等. AFM制作纳米光栅技术研究[J]. 光学技术, 2006,(3):330-332. DOI：

Technique of nano-grating fabricated by AFM[J]. 2006, (3): 330-332. DOI：

在扫描探针纳米加工技术的基础上

提出了利用原子力显微镜(AFM)来制作高频光栅的新工艺。利用AFM硅制探针

在接触模式下对光盘(聚碳酸酯材料)进行刻划试验。对刻划光栅的工艺参数进行优化

得到了纳米量级光栅。并将刻划所得光栅应用于数字云纹法

与数字参考栅干涉形成微/纳米数字云纹。实验结果表明

该法所制得的光栅可以应用于实际变形的测量。

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