抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

更新时间：2025-09-01

- 抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响
- The influences of the polishing liquid's pH values upon the roughness of the polishing component surface
- 光学技术 2006年第4期页码：562-564
- 作者机构：
  
  1. 1:四川大学电子信息学院
  2. 2:四川大学电子信息学院
  3. 3:成都精密光学工程研究中心
  4. 4:成都精密光学工程研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2006
- 稿件说明：
移动端阅览
韩敬华, 冯国英, 杨李茗, 等. 抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响[J]. 光学技术, 2006,(4):562-564.

The influences of the polishing liquid's pH values upon the roughness of the polishing component surface[J]. 2006, (4): 562-564.
韩敬华, 冯国英, 杨李茗, 等. 抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响[J]. 光学技术, 2006,(4):562-564. DOI：

The influences of the polishing liquid's pH values upon the roughness of the polishing component surface[J]. 2006, (4): 562-564. DOI：

减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响;抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间而变化;抛光过程中

当保持抛光液处于微碱状态

且离抛光粉的等电离点较远时

抛光元件表面具有较小的粗糙度。

浏览量

880

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

纳秒激光抛光钛合金Ti6Al4V作用机理的实验研究

飞切加工KDP晶体的工艺研究

基于CCD摄像机石材表面粗糙度检测方法

基于机器视觉的表面粗糙度测量与三维评定

浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究