无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

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无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

更新时间：2025-09-01

- 无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究
- Damage-free and super smooth surface of LBO crystal
- 光学技术 2006年第6期页码：838-841
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院理化技术研究所北京人工晶体研究发展中心
  2. 2:中国科学院理化技术研究所北京人工晶体研究发展中心
  3. 3:中国科学院理化技术研究所北京人工晶体研究发展中心,北京,100080
  4. 4:中国科学院研究生院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2006
- 稿件说明：
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李军, 朱镛, 陈创天. 无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究[J]. 光学技术, 2006,(6):838-841.

Damage-free and super smooth surface of LBO crystal[J]. 2006, (6): 838-841.
李军, 朱镛, 陈创天. 无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究[J]. 光学技术, 2006,(6):838-841. DOI：

Damage-free and super smooth surface of LBO crystal[J]. 2006, (6): 838-841. DOI：

传统的抛光LBO晶体的方法是选用金刚石抛光粉在沥青抛光盘上抛光。沥青盘易于变形不容易修整

金刚石粉特别硬容易损伤抛光晶体表面。抛光过程中

抛光盘和抛光粉的选择是非常重要的

直接影响到抛光效率和最终的表面质量。新的抛光LBO晶体的方法

其抛光过程是一个化学机械过程

抛光盘、抛光粉和抛光材料相互作用。选用两种抛光盘(培纶和聚氨酯盘)

三种较软的抛光磨料(CeO2

Al2O3和SiO2胶体)

并在LBO晶体的(001)面进行抛光实验。用原子力显微镜测量和分析了表面粗糙度。结果表明

使用聚氨酯盘和SiO2胶体能够获得无损伤超光滑的LBO晶体表面

其表面粗糙度的RMS为0.3nm。

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