等离子体辅助制备窄带滤光片

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等离子体辅助制备窄带滤光片

薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- 等离子体辅助制备窄带滤光片
- Preparation narrow-band pass filter by plasma ion assisted deposition
- 光学技术 2007年第S1期页码：206-207
- 作者机构：
  
  1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家“863”计划资助项目(2001AA312100);中科院光电集团资助项目(KGCX2-405)
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2007
- 稿件说明：
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袁宏韬, 张贵彦. 等离子体辅助制备窄带滤光片[J]. 光学技术, 2007,(S1):206-207.

Preparation narrow-band pass filter by plasma ion assisted deposition[J]. 2007, (S1): 206-207.
袁宏韬, 张贵彦. 等离子体辅助制备窄带滤光片[J]. 光学技术, 2007,(S1):206-207. DOI：

Preparation narrow-band pass filter by plasma ion assisted deposition[J]. 2007, (S1): 206-207. DOI：

研究了采用等离子辅助技术制备窄带滤光片的工艺。介绍了等离子辅助蒸镀系统的基本工作原理

描述了优化膜厚均匀性的过程。在有色玻璃上制备了由多层TiO2和SiO2薄膜组成的窄带滤光片

测试并分析了窄带滤光片的性能。试验结果表明

采用等离子体辅助蒸镀技术能够批量制备具有优良光学性能的窄带滤光片。

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