高纯石英玻璃研抛特性的研究

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高纯石英玻璃研抛特性的研究

光学工艺与光学测量 | 更新时间：2025-09-01

- 高纯石英玻璃研抛特性的研究
- Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass
- 光学技术 2008年34卷第S1期页码：278-280
- 作者机构：
  
  1:中国建筑材料科学研究总院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2008
- 稿件说明：
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宋波, 罗琳, 王玉芬. 高纯石英玻璃研抛特性的研究[J]. 光学技术, 2008,34(S1):278-280.

Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass[J]. 2008, 34(S1): 278-280.
宋波, 罗琳, 王玉芬. 高纯石英玻璃研抛特性的研究[J]. 光学技术, 2008,34(S1):278-280. DOI：

Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass[J]. 2008, 34(S1): 278-280. DOI：

介绍了高纯石英玻璃的研抛特性。从石英玻璃的内部结构、硬度、微裂纹、表面结构等几方面分析了石英玻璃的物理特性

并与K9光学玻璃进行了对比。通过研究两者被抛光表面的显微图像

分析其产生的原因

结果表明

高纯石英玻璃研抛去除速度慢、表面质量高。

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