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1. 1:桂林电子科技大学机电工程学院
2. 2:华中科技大学机械科学与工程学院
纸质出版:2008
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龙芋宏, 史铁林, 熊良才. 准分子激光电化学刻蚀金属的研究[J]. 光学技术, 2008,34(S1):227-228.
Study on excimer laser-induced electrochemical etching metal[J]. 2008, 34(S1): 227-228.
龙芋宏, 史铁林, 熊良才. 准分子激光电化学刻蚀金属的研究[J]. 光学技术, 2008,34(S1):227-228. DOI:
Study on excimer laser-induced electrochemical etching metal[J]. 2008, 34(S1): 227-228. DOI:
为了探寻准分子激光电化学刻蚀工艺的特性
采用功率密度大的248nm准分子激光聚焦照射浸在溶液中的金属表面
实现了一种激光电化学刻蚀复合工艺。在实验的基础上
通过对激光电化学刻蚀金属和硅的基本形貌进行比较和分析
研究了该工艺的工艺特性。研究结果表明
该复合工艺为激光直接刻蚀和激光热诱导电化学刻蚀。其中激光热诱导电化学刻蚀是通过激光的光热效应和由激光诱导的冲击波来实现对腐蚀液和材料的冲击、微搅拌等作用的。
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