基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟

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光学工艺 | 更新时间：2025-09-01

- 基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟
- Analysis and simulation of flow field in magnetorheological jet polishing by MHD
- 光学技术 2009年35卷第5期页码：736-738
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院光电技术研究所
  2. 2:中科院研究生院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2009
- 稿件说明：
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施春燕, 伍凡, 袁家虎, 等. 基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟[J]. 光学技术, 2009,35(5):736-738.

Analysis and simulation of flow field in magnetorheological jet polishing by MHD[J]. 2009, 35(5): 736-738.
施春燕, 伍凡, 袁家虎, 等. 基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟[J]. 光学技术, 2009,35(5):736-738. DOI：

Analysis and simulation of flow field in magnetorheological jet polishing by MHD[J]. 2009, 35(5): 736-738. DOI：

从理论上分析了磁射流抛光中的磁场与流场的相互作用

构建了磁射流抛光的冲击射流模型

基于磁流体动力学对磁射流抛光过程的紊动冲击射流进行数值模拟

得到了磁射流抛光过程的连续流场和射流在工件壁面上的压力、速度、紊动强度分布。通过比较射流抛光和磁射流抛光的数值计算结果

分析了磁流变效应对射流稳定性的影响

从射流的流场、速度、紊动强度等方面分析射流在磁场中稳定的原因。

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