用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质

光学材料 | 更新时间：2025-09-01

- 用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质
- Study on the optical properties of amorphous silicon film by simulated annealing algorithm
- 光学技术 2009年35卷第4期页码：492-495
- 作者机构：
  
  1:陕西师范大学物理与信息技术学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：2009
- 稿件说明：
移动端阅览
晏春愉, 高斐, 张佳雯, 等. 用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质[J]. 光学技术, 2009,35(4):492-495.

Study on the optical properties of amorphous silicon film by simulated annealing algorithm[J]. 2009, 35(4): 492-495.
晏春愉, 高斐, 张佳雯, 等. 用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质[J]. 光学技术, 2009,35(4):492-495. DOI：

Study on the optical properties of amorphous silicon film by simulated annealing algorithm[J]. 2009, 35(4): 492-495. DOI：

在玻璃衬底上采用等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)法制备了非晶硅薄膜(A-Si:H)。用紫外-可见-近红外分光光度计测出了其透射光谱。采用模拟退火算法研究了透射光谱

得出了薄膜的厚度、折射率和吸收系数随波长变化的关系式、光学带隙等光学常数

并对该方法的优缺点进行了讨论。

浏览量

209

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

载玻片光学常数的透射法分析

用于自由曲面部分补偿干涉测量的可变形镜面形设计的优化方法

离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究

膜层厚度对金属薄膜光学常数的影响

自适应模拟退火遗传算法在薄膜厚度及光学常数反演中的应用