自持铝薄膜的工艺和特性研究

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自持铝薄膜的工艺和特性研究

更新时间：2025-09-01

- 自持铝薄膜的工艺和特性研究
- Technology and performance of thin self-supporting aluminium film
- 光学技术 2000年第2期页码：97-98
- 作者机构：
  
  1:西安交通大学电信学院,陕西,西安,710049
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.001
  中图分类号：
- 纸质出版：2000
- 稿件说明：
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闫金良. 自持铝薄膜的工艺和特性研究[J]. 光学技术, 2000,(2):97-98.

Technology and performance of thin self-supporting aluminium film[J]. 2000, (2): 97-98.
闫金良. 自持铝薄膜的工艺和特性研究[J]. 光学技术, 2000,(2):97-98. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.001.

Technology and performance of thin self-supporting aluminium film[J]. 2000, (2): 97-98. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.001.

铝薄膜在像管中起重要作用。为了提高像管的性能

需要对自持铝薄膜的特性加以研究。利用静电贴膜技术制备了自持铝薄膜

测量了 5 0nm厚自持铝薄膜入射面的背散射系数和二次发射系数以及出射面的一次电子透射系数和二次发射系数。对于高能一次入射电子

自持铝薄膜的背散射系数很小

透射系数很大

二次发射系数较小。自持铝薄膜在本质上不影响像管的MTF

由其出射面发射的二次电子对像管亮度有增强作用

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