几种参数对磁流变抛光的影响

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几种参数对磁流变抛光的影响

更新时间：2025-09-01

- 几种参数对磁流变抛光的影响
- Effect on magnetorheological finishing by several parameters
- 光学技术 2000年第3期页码：220-221
- 作者机构：
  
  1:中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助项目(22061002;52067002)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.03.010
  中图分类号：
- 纸质出版：2000
- 稿件说明：
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张峰. 几种参数对磁流变抛光的影响[J]. 光学技术, 2000,(3):220-221.

Effect on magnetorheological finishing by several parameters[J]. 2000, (3): 220-221.
张峰. 几种参数对磁流变抛光的影响[J]. 光学技术, 2000,(3):220-221. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.03.010.

Effect on magnetorheological finishing by several parameters[J]. 2000, (3): 220-221. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.03.010.

以所建立的磁流变抛光的数学模型为基础

通过实验研究了抛光时间、运动盘的速度、工件与运动盘形成的间隙大小、磁场强度等参数对磁流变抛光的影响。具体做法是改变磁流变抛光的一种参数

而使其余的参数保持不变

得出该参数与磁流变抛光去除函数关系的曲线图

进而揭示了工件的材料去除函数随该参数的变化规律。

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