电子束和X射线双曝光制作大高宽比高分辨率的X射线波带片

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更新时间：2025-09-01

- 电子束和X射线双曝光制作大高宽比高分辨率的X射线波带片
- High aspect ratio and resolution X-ray zoneplate fabrication using both electron beam and X-ray beam exposure technology
- 光学技术 2000年第6期页码：524-525
- 作者机构：
  
  1:中国科学技术大学天文与应用物理系,安徽,合肥,230026
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.015
  中图分类号：
- 纸质出版：2000
- 稿件说明：
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康士秀. 电子束和X射线双曝光制作大高宽比高分辨率的X射线波带片[J]. 光学技术, 2000,(6):524-525.

High aspect ratio and resolution X-ray zoneplate fabrication using both electron beam and X-ray beam exposure technology[J]. 2000, (6): 524-525.
康士秀. 电子束和X射线双曝光制作大高宽比高分辨率的X射线波带片[J]. 光学技术, 2000,(6):524-525. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.015.

High aspect ratio and resolution X-ray zoneplate fabrication using both electron beam and X-ray beam exposure technology[J]. 2000, (6): 524-525. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.015.

介绍了利用电子束和 X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的 X射线聚焦或色散元件的新方法 (波长范围为 1～ 5 nm )。所制做的厚度为 10μm的 Au波带片具有 30个波带

最外环的宽度为 0 .5μm。实验表明 :对 8ke V的X射线来说

波带片的衬度大于 10

分辨率为 0 .5 5μm

焦距为 2 1.3cm。

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