电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术

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更新时间：2025-09-01

- 电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术
- Fabrication of the micro/sub-micron Moire gratings using electron beam lithography method
- 光学技术 2000年第6期页码：526-528
- 作者机构：
  
  1. 1:清华大学工程力学系,北京,100084
  2. 2:清华大学工程力学系,北京,100084
  3. 3:清华大学结构与振动开放实验室客座研究人员
  4. 4:清华大学结构与振动开放实验室客座研究人员
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家教育部清华大学结构与振动开放实验室基金资助项目;日本科学技术厅 STA基金资助项目
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.016
  中图分类号：
- 纸质出版：2000
- 稿件说明：
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谢惠民, 戴福隆, 岸本哲, 等. 电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术[J]. 光学技术, 2000,(6):526-528.

Fabrication of the micro/sub-micron Moire gratings using electron beam lithography method[J]. 2000, (6): 526-528.
谢惠民, 戴福隆, 岸本哲, 等. 电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术[J]. 光学技术, 2000,(6):526-528. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.016.

Fabrication of the micro/sub-micron Moire gratings using electron beam lithography method[J]. 2000, (6): 526-528. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.06.016.

本文应用电子束刻蚀技术并结合真空镀膜技术提出了制作电子束云纹光栅的新方法。首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺。所制得的光栅可在两频率下应用电子束云纹法测量物体的变形。同一般光栅相比

这种双频光栅变形量程范围更大。在本研究中

运用电子束刻蚀法并结合真空镀膜技术制作出 0 .1μm间距 ( 10 0 0 0线 /mm光栅 )的电子束云纹光栅。应用所制作的 10 μm/1μm双频光栅与相对应的电子束参考栅干涉

分别得到对应的电子束云纹场。文中对制栅工艺及方法进行了详细的讨论。

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