PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索

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PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索

薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索
- Preparation of anti-reflection films by PECVD technology
- 光学技术 2011年37卷第1期页码：97-100
- 作者机构：
  
  1:西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2011.01.012
  中图分类号：
- 纸质出版：2011
- 稿件说明：
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张霄, 杭凌侠. PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索[J]. 光学技术, 2011,37(1):97-100.

Preparation of anti-reflection films by PECVD technology[J]. 2011, 37(1): 97-100.
张霄, 杭凌侠. PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索[J]. 光学技术, 2011,37(1):97-100. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2011.01.012.

Preparation of anti-reflection films by PECVD technology[J]. 2011, 37(1): 97-100. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2011.01.012.

讨论了采用PECVD方法在K9玻璃基底上制备SiO2、SiNx、以及SiOxNy薄膜材料的工艺参数与薄膜光学特性、沉积速率的关系

并且运用掌握的工艺参数成功地制备了400～800nm波长范围双层、梯度折射率减反射膜样片。实验结果表明

采用PECVD方法能够制备折射率可控的光学薄膜材料

沉积薄膜厚度的精度可以控制在7%以内。

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