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双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究
光学工艺 | 更新时间：2025-09-01

    • 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究

    • Study on the influence of the relative position of the polishing pad to the removal quantity in two-axis lapping/polishing mode

    • 光学技术   2013年39卷第5期 页码：408-412

    • DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.005    

      中图分类号：

    • 纸质出版：2013

    移动端阅览

  • 张杨, 李秀龙, 徐清兰, 等. 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究[J]. 光学技术, 2013,39(5):408-412. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.005.

    Study on the influence of the relative position of the polishing pad to the removal quantity in two-axis lapping/polishing mode[J]. 2013, 39(5): 408-412. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.005.

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