模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式

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物理光学 | 更新时间：2025-09-01

- 模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式
- Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography
- 光学技术 2013年39卷第5期页码：413-418
- 作者机构：
  
  1:北京理工大学光电学院
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然基金重点项目;国家中长期科技重大专项(F050809/60938003)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.006
  中图分类号：
- 纸质出版：2013
- 稿件说明：
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杨亮, 李艳秋, 刘克, 等. 模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式[J]. 光学技术, 2013,39(5):413-418.

Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography[J]. 2013, 39(5): 413-418.
杨亮, 李艳秋, 刘克, 等. 模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式[J]. 光学技术, 2013,39(5):413-418. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.006.

Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography[J]. 2013, 39(5): 413-418. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.05.006.

为了仿真光刻中接触孔掩模的衍射

建立了严格的三维(3D)掩模模型。采用法向矢量法(NV)改善了接触孔掩模耦合波方程的收敛性。利用S矩阵求解线性方程组避免了数值不稳定问题。对于双吸收层衰减相移接触孔掩模

当有效的截断级次达到1225级以上时

0)级次能得到更好的收敛结果。当有效的截断级次分别为1225级

1369级

1521级及1681级时

衍射效率分别为23.64%

23.67%

23.63%及23.66%。利用建立的模型

研究了偏振态随着掩模、入射光参数的变化关系。当线宽小于25nm时

掩模主要透过TM偏振光。

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