离子束辅助沉积(IAD)镀制抗电磁干扰与减反射复合薄膜

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薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- 离子束辅助沉积(IAD)镀制抗电磁干扰与减反射复合薄膜
- Coated technology on composite thin-film of anti-electromagnetic interference and anti-reflecting film by ion assisted deposition
- 光学技术 2014年40卷第1期页码：75-78
- 作者机构：
  
  1:北方夜视科技集团有限公司
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.01.017
  中图分类号：
- 纸质出版：2014
- 稿件说明：
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杨伟声. 离子束辅助沉积(IAD)镀制抗电磁干扰与减反射复合薄膜[J]. 光学技术, 2014,40(1):75-78.

Coated technology on composite thin-film of anti-electromagnetic interference and anti-reflecting film by ion assisted deposition[J]. 2014, 40(1): 75-78.
杨伟声. 离子束辅助沉积(IAD)镀制抗电磁干扰与减反射复合薄膜[J]. 光学技术, 2014,40(1):75-78. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.01.017.

Coated technology on composite thin-film of anti-electromagnetic interference and anti-reflecting film by ion assisted deposition[J]. 2014, 40(1): 75-78. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.01.017.

在K9玻璃基底上将两种物理性能完全不同的薄膜形成组合膜系层

实现了抗电磁干扰、高透光的效果。技术指标为:在400nm-1100nm宽波段范围平均透光率不低于90%;为达到良好的抗电磁干扰屏蔽效果

抗电磁屏蔽其方块电阻值为4±0.5Ω/口。为满足设计技术指标要求

计算设计了抗电磁干扰与减反射复合膜系结构

进行了镀膜工艺实验。实验结果表明

通过采用离子束辅助沉积工艺技术

可改善光学薄膜的微观结构

进而提高了复合薄膜的光学、物理性能和膜层的稳定性。

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