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1:北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室
纸质出版:2014
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符媛英, 李艳秋, 刘晓林, 等. 投影光刻物镜波像差的公差分析方法[J]. 光学技术, 2014,40(4):289-294.
A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens[J]. 2014, 40(4): 289-294.
符媛英, 李艳秋, 刘晓林, 等. 投影光刻物镜波像差的公差分析方法[J]. 光学技术, 2014,40(4):289-294. DOI: 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.001.
A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens[J]. 2014, 40(4): 289-294. DOI: 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.001.
为保证投影光刻物镜的成像性能并降低制造成本
提出了一种更全面可靠的公差分析方法。该方法在以波像差均方根(RMS)值作为评价标准的传统分析方法基础上
添加波像差峰谷(P-V)值作为评价指标
并据此选择合理的补偿器组合。在系统波像差的RMS值和P-V值均满足要求的情况下
采用了较少的补偿器
从而有效地降低了系统的制造难度和成本。结合实验室设计的一套90nm投影光刻物镜进行了公差分析和补偿器优选。结果表明
利用该方法选择的7个补偿器
使得系统在97.7%置信区间内
全视场波像差的RMS值≤0.0412λ
P-V值≤0.2469λ
满足了90nm投影光刻物镜的像质要求。
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