PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术

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薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术
- Study on controlled refractive index of optical thin films by PECVD
- 光学技术 2014年40卷第4期页码：353-356
- 作者机构：
  
  1. 1:西安工业大学
  2. 2:陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.015
  中图分类号：
- 纸质出版：2014
- 稿件说明：
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薛俊, 杭凌侠, 刘昊轩. PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术[J]. 光学技术, 2014,40(4):353-356.

Study on controlled refractive index of optical thin films by PECVD[J]. 2014, 40(4): 353-356.
薛俊, 杭凌侠, 刘昊轩. PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术[J]. 光学技术, 2014,40(4):353-356. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.015.

Study on controlled refractive index of optical thin films by PECVD[J]. 2014, 40(4): 353-356. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.015.

渐变折射率光学薄膜用途广泛

PECVD技术在制备渐变折射率光学薄膜方面具有独特的优点。通过控制不同反应气体配比变化

分析了反应气体配比变化与所制备的薄膜折射率、消光系数和沉积速率之间的关系

讨论了薄膜折射率、消光系数和沉积速率变化的原因

研制了折射率可控的氟氧化硅(SiOxFy)、氮氧化硅(SiOxNy)、氮化硅(SixNy)等薄膜材料

获取了折射率在1.33~2.06之间的光学薄膜材料。

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CSCD

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