浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究

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光学工艺 | 更新时间：2025-09-01

- 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究
- Experimental study of the influence of slurry particle size on material removal consequent in bowl-feed polishing
- 光学技术 2014年40卷第6期页码：486-491
- 作者机构：
  
  1. 1:四川大学电子信息学院
  2. 2:中国科学院光电技术研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.06.002
  中图分类号：
- 纸质出版：2014
- 稿件说明：
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张杨, 徐清兰, 陈梅, 等. 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究[J]. 光学技术, 2014,40(6):486-491.

Experimental study of the influence of slurry particle size on material removal consequent in bowl-feed polishing[J]. 2014, 40(6): 486-491.
张杨, 徐清兰, 陈梅, 等. 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究[J]. 光学技术, 2014,40(6):486-491. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.06.002.

Experimental study of the influence of slurry particle size on material removal consequent in bowl-feed polishing[J]. 2014, 40(6): 486-491. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.06.002.

为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响

选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明

在试验条件相同的情况下

不同平均粒径的抛光粉

粒径越小

抛光后的元件表面粗糙度越好。从使用不同比例的混合抛光粉试验中可以看出

粒度的均匀性是影响工件表面粗糙度的重要因素。结合抛光粉粒度分布图和试验结果可以看出

抛光粉粒子的分布范围越小

以及各粒径大小分布在峰值附近的粒子所占体积百分比越接近

加工后的工件表面粗糙度越小。

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