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1. 1:微纳测控与低维物理教育部重点实验室
2. 2:国家"惯性技术"重点实验室
3. 3:北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院
纸质出版:2015
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刘雪萍, 董全林, 张秀艳. TDX-200TEM物镜磁路缺陷对物镜性能影响研究[J]. 光学技术, 2015,41(1):81-84.
Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance[J]. 2015, 41(1): 81-84.
刘雪萍, 董全林, 张秀艳. TDX-200TEM物镜磁路缺陷对物镜性能影响研究[J]. 光学技术, 2015,41(1):81-84. DOI: 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.01.017.
Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance[J]. 2015, 41(1): 81-84. DOI: 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.01.017.
基于TDX-200透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope
TEM)
利用ANSYS软件仿真物镜磁路存在空隙、凹陷、凸起缺陷时物镜轴上的磁场分布
在此基础上利用MEBS软件仿真物镜激励、球差系数等性能参数
分析了各磁路缺陷对物镜分辨率的影响。结果表明
在相同加速电压下
相对于空隙缺陷、凸起缺陷对物镜分辨率的影响
凹陷缺陷对物镜分辨率的影响最大。在200k V加速电压下
当物镜存在直径为0.5mm的半圆形凹陷环缺陷时
实际分辨率相对于理想分辨率的变化量可达到9.68%。
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CSCD
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