离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究

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薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- 离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究
- Research on the UV optical and surface property of HfO₂ film by Ion-assisted deposition
- 光学技术 2015年41卷第6期页码：502-505
- 作者机构：
  
  1:北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家973计划项目(2013CB329202);工业技术基础项目(J312012B002)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.06.006
  中图分类号：
- 纸质出版：2015
- 稿件说明：
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唐义, 蒋静, 蒋玉蓉, 等. 离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究[J]. 光学技术, 2015,41(6):502-505.

Research on the UV optical and surface property of HfO₂ film by Ion-assisted deposition[J]. 2015, 41(6): 502-505.
唐义, 蒋静, 蒋玉蓉, 等. 离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究[J]. 光学技术, 2015,41(6):502-505. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.06.006.

Research on the UV optical and surface property of HfO₂ film by Ion-assisted deposition[J]. 2015, 41(6): 502-505. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.06.006.

利用离子束辅助沉积方法制备单层二氧化铪薄膜

对薄膜样品的折射率、吸收特性进行了研究。实验结果表明

薄膜特性与制备工艺参数有着密切的关系

沉积速率、烘烤温度、离子束流、氧气流量均对单层二氧化铪薄膜紫外光学特性有着不同程度的影响。实验分析了不同工艺因素对单层二氧化铪薄膜的影响

并且找到了在一定范围内的最佳工艺参数。针对可能对紫外波段造成较大散射吸收损耗的微观表面形貌

利用SEM分析了典型工艺因素对表面形貌的影响。

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