PECVD技术制备多波段渐变减反膜

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

PECVD技术制备多波段渐变减反膜

薄膜光学 | 更新时间：2025-09-01

- PECVD技术制备多波段渐变减反膜
- Preparation of multi-band antireflection films with gradient refractive index by PECVD technology
- 光学技术 2016年42卷第3期页码：248-251
- 作者机构：
  
  1. 1:西安工业大学
  2. 2:陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2016.03.012
  中图分类号：
- 纸质出版：2016
- 稿件说明：
移动端阅览
黄发彬, 杭凌侠, 龚勋, 等. PECVD技术制备多波段渐变减反膜[J]. 光学技术, 2016,42(3):248-251.

Preparation of multi-band antireflection films with gradient refractive index by PECVD technology[J]. 2016, 42(3): 248-251.
黄发彬, 杭凌侠, 龚勋, 等. PECVD技术制备多波段渐变减反膜[J]. 光学技术, 2016,42(3):248-251. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2016.03.012.

Preparation of multi-band antireflection films with gradient refractive index by PECVD technology[J]. 2016, 42(3): 248-251. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2016.03.012.

介绍了利用傅里叶变化法设计多波段渐变减反膜的原理和方法

研究了采用该方法设计多波段减反膜时Q函数的优选流程

给出了最优Q函数。设计优化得到了在350~5000nm波段范围平均透过率大于90%的多层渐变减反膜系结构

并采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术完成了样片的制备。实验结果表明

镀制的样片在350~5000nm波段范围的平均透过率为90.55%

满足光谱特性的要求。

浏览量

260

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术

PECVD技术制备光学减反射膜工艺探索

双波段宽带减反膜的研究