液浮法抛光优化技术

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液浮法抛光优化技术

光学加工 | 更新时间：2025-09-01

- 液浮法抛光优化技术
- Optimization technology of liquid float polishing
- 光学技术 2019年45卷第2期页码：251-256
- 作者机构：
  
  1:西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  装备发展部共用技术项目(41423020111);陕西省自然科学基础研究计划项目(2018JM6031);陕西省教育厅重点实验室科研计划项目(18JS052);陕西省科技厅重点研发计划项目(2017ZDXM-GY-122)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023
  中图分类号：
- 纸质出版：2019
- 稿件说明：
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弥谦, 秦琳, 李宏, 等. 液浮法抛光优化技术[J]. 光学技术, 2019,45(2):251-256.

Optimization technology of liquid float polishing[J]. 2019, 45(2): 251-256.
弥谦, 秦琳, 李宏, 等. 液浮法抛光优化技术[J]. 光学技术, 2019,45(2):251-256. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023.

Optimization technology of liquid float polishing[J]. 2019, 45(2): 251-256. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023.

一种新的光学元件表面抛光工艺—液浮抛光技术

采用具有剪切增稠效应的非牛顿流体作为抛光液

流体在抛光区域形成液膜

实现对工件表面高效、低损伤的加工。以材料去除量以及工件表面粗糙度作为评价指标

利用正交实验法对K9玻璃抛光过程中的四个关键影响因素:磨粒质量分数、磨头入口压强、磨头重力、剪切增稠相中分散相的质量分数进行实验分析

得到一组最优参数组合以及各主要影响因素对抛光效果的影响程度。对于工件表面粗糙度

采用极差法得出各因素对整个工件的影响程度的主次顺序为(主→次):二氧化硅质量分数、磨头重力、入口压强、磨粒质量分数

最佳参数组合为:磨粒氧化铈质量分数为14%

入口压强为0.3MPa

剪切增稠相中分散相二氧化硅质量分数为9%

磨头重力为34.3kg;对于材料去除量分布

经过90min的抛光

其平均去除量为0.2μm。

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