基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析

孙哲; 任玉; 石晶; 宋晨智; 周建伟; 蔡红星

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.015

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基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析

微纳光学 | 更新时间：2025-09-01

- 基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析
- Potential failure mode analysis of band pass filter film based on super transmission phenomenon
- 光学技术 2022年48卷第2期页码：184-188
- 作者机构：
  
  1:长春理工大学理学院吉林省光谱探测科学与技术重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  吉林省科技厅发展计划基金(20190303108SF)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.015
  中图分类号： O43
- 纸质出版：2022
- 稿件说明：
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孙哲, 任玉, 石晶, 等. 基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析[J]. 光学技术, 2022,48(2):184-188.

Potential failure mode analysis of band pass filter film based on super transmission phenomenon[J]. 2022, 48(2): 184-188.
孙哲, 任玉, 石晶, 等. 基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析[J]. 光学技术, 2022,48(2):184-188. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.015.

Potential failure mode analysis of band pass filter film based on super transmission phenomenon[J]. 2022, 48(2): 184-188. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.015.

摘要

文章在理论方面利用亚波长孔阵结构透射峰位关系公式，针对光谱探测器件所需要的具备单峰窄带透射特性的介质-金属-介质的三层结构”双玻孔阵”结构模型的窄带单峰透射结果，基于现有的加工工艺对较常出现的上沿过刻、孔底残留和孔底过刻三种实验误差进行了潜在失效模式分析，与标准双玻孔阵模型对比结果，分析得到加工误差对窄带单峰透射的各种影响及产生的机理。对利用双玻孔阵结构的异常透射原理对入射光进行选择性透过制备出的新型像素级滤光膜系的制备工艺有一定的指导意义。

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基于超透射现象的带通滤光膜潜在失效模式分析

Potential failure mode analysis of band pass filter film based on super transmission phenomenon

DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.015

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