硅单晶退火后的红外光学性能及其影响因素的研究

马远飞; 姜信驰; 张栩; 陈志豪; 吕超; 林泉

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2025.01.002

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硅单晶退火后的红外光学性能及其影响因素的研究

光学材料与加工 | 更新时间：2025-09-01

- 硅单晶退火后的红外光学性能及其影响因素的研究
- Study on the infrared optical properties of monocrystalline silicon after annealing and its influencing factors
- 光学技术 2025年51卷第1期页码：43-48
- 作者机构：
  
  1. 1:有研国晶辉新材料有限公司
  2. 2:吉林大学电子科学与工程学院
  3. 3:集成光电子学国家联合重点室
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  河北省“三三三人才工程”资助项目(C20231166);河北省军民融合创新项目(SJMYF202307);河北省自然科学基金项目(F2022103002)
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2025.01.002
  中图分类号： TQ127.2
- 纸质出版：2025
- 稿件说明：
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马远飞, 姜信驰, 张栩, 等. 硅单晶退火后的红外光学性能及其影响因素的研究[J]. 光学技术, 2025,51(1):43-48.

Study on the infrared optical properties of monocrystalline silicon after annealing and its influencing factors[J]. 2025, 51(1): 43-48.
马远飞, 姜信驰, 张栩, 等. 硅单晶退火后的红外光学性能及其影响因素的研究[J]. 光学技术, 2025,51(1):43-48. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2025.01.002.

Study on the infrared optical properties of monocrystalline silicon after annealing and its influencing factors[J]. 2025, 51(1): 43-48. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2025.01.002.

摘要

硅单晶的光学特性对于中短波红外探测系统的性能至关重要，对航天技术的进步具有重要的影响。文章聚焦于直拉法制备硅单晶过程中由于温度梯度引起的热应力问题，以及热应力对硅单晶光学不均匀的影响。通过对比未退火、慢退火和快退火三种不同方式下硅单晶的应力双折射现象，深入分析单晶硅近红外波段(3～5μm)的红外吸收和折射率特性，总结了不同退火方式对硅单晶光学不均匀性的影响。最终，文章归纳了应力影响光学均匀性的机理，提出了通过降低晶体内应力以改善光学均匀性的策略，为实现高品质硅单晶的制备提供了理论依据和实践指导。

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